Samsung relanza el desarrollo de su grabado de 1,4 nm, pero retrasa su producción a 2029

Samsung relanza el desarrollo de su grabado de 1,4 nm, pero pospone su producción hasta 2029

El gigante electrónico surcoreano no renuncia a sus ambiciones en el campo de los semiconductores. Según el medio surcoreano The Bell, Samsung habría reiniciado el desarrollo de su futuro proceso de grabado a 1,4 nm, conocido como código SF1.4.

No obstante, su cronograma sufriría cambios significativos. Mientras que anteriormente se preveía una producción en masa para 2027, ahora se ha pospuesto hasta 2029.

Samsung prioriza primero el grabado a 2 nm

De acuerdo con la información publicada por The Bell, Samsung ha decidido enfocar sus recursos en la optimización de sus procesos de grabado a 2 nm, particularmente en las tecnologías SF2 y SF2P.

Esta estrategia parece haber dado resultados positivos.

El fabricante habría mejorado recientemente sus rendimientos de producción en estos procesos y conseguido un contrato importante con Tesla para la fabricación de futuros procesadores destinados a la inteligencia artificial. Una vez alcanzados estos objetivos, Samsung estaría en posición de continuar con los trabajos en la siguiente generación.

Equipos ya en preparación

La empresa habría comenzado a contactar a varios de sus socios para preparar esta nueva etapa. Según el informe, Samsung habría solicitado a proveedores como Applied Materials y Lam Research que inicien el desarrollo de los equipos necesarios para la fabricación de chips a 1,4 nm.

Los primeros sistemas estarán destinados al centro de investigación NRD-K, la instalación de Samsung dedicada a las tecnologías de grabado más avanzadas. El objetivo es, ante todo, preparar las futuras líneas de producción mucho antes de su comercialización.

Nuevas máquinas High-NA EUV ya instaladas

Samsung también contaría con una ventaja significativa para esta futura generación. La compañía ya habría recibido los primeros equipos High-NA EUV proporcionados por ASML, una nueva generación de máquinas de litografía muy esperadas por la industria.

Estos equipos ofrecen una precisión superior a los sistemas EUV actuales y deberían desempeñar un papel esencial en la fabricación de los procesos más finos, como el de 1,4 nm.

Según la información disponible, Samsung planea utilizar esta tecnología en algunas capas críticas de sus futuras chips.

Una competencia muy avanzada

A pesar de este relanzamiento, Samsung se mantiene atrás en comparación con sus principales competidores. Intel planifica actualmente lanzar la producción en masa de su proceso Intel 14A para 2027. Por su parte, TSMC aspira a producir sus primeros chips grabados según su proceso A14 a partir de 2028.

Samsung ahora apunta a 2029, es decir, uno o dos años más tarde.

Es importante recordar que las denominaciones comerciales «1,4 nm» utilizadas por los diferentes fabricantes no corresponden a una medida física uniforme. Cada fabricante adopta su propia nomenclatura y los procesos se basan en arquitecturas diferentes, lo que dificulta las comparaciones directas.

Samsung también prepara la próxima generación de memoria

El informe también indica que Samsung sigue desarrollando sus memorias flash. La empresa ya habría comenzado a solicitar los equipos necesarios para la fabricación de la futura generación V12 NAND, cuya producción industrial se prevé para alrededor de 2030.

Estas inversiones demuestran que Samsung sigue acelerando simultáneamente en las actividades de fundición y en la memoria, dos sectores estratégicos para el grupo.

Una carrera tecnológica lejos de haber terminado

El aplazamiento del proceso SF1.4 podría dar la impresión de que Samsung pierde terreno frente a Intel y TSMC. Sin embargo, la prioridad otorgada al 2 nm también refleja una estrategia encaminada a mejorar los rendimientos de producción antes de pasar a una generación aún más compleja.

La llegada progresiva de los equipos High-NA EUV podría también cambiar el panorama en los próximos años. Samsung es uno de los primeros actores en invertir en esta nueva tecnología de litografía, que será esencial para seguir reduciendo el tamaño de los transistores.

Ahora queda por ver si este avance en los equipos permitirá al grupo surcoreano cerrar su brecha frente a Intel y TSMC cuando la batalla de la grabación a 1,4 nm se intensifique a finales de la década.


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